TCL科技集团申请薄膜制备方法等专利改善长时间热处理工艺对薄膜的不利影响

　　金融界2024年10月30日消息，国家知识产权局信息显示，TCL科技集团股份有限公司申请一项名为“薄膜的制备方法、光电器件及显示装置”的专利，公开号CN 118829334 A，申请日期为2023年4月。

　　专利摘要显示，本申请公开了一种薄膜的制备方法、光电器件及显示装置，制备方法包括以下步骤：提供初始薄膜；对所述初始薄膜进行溶剂退火处理，得到薄膜；其中，所述溶剂退火处理在磁场环境下进行。本申请旨在改善长时间热处理工艺对薄膜造成的不利影响。